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ASML/台积电2nm确定用！NVIDIA带来芯片光刻技术大飞跃：提速40倍
今晚（3月21日），NVIDIA春季GTC技术大会召开。作为NVIDIA炫技的主要舞台，新东西可谓眼花缭乱。其中值得关注的一项是，NVIDIA宣布推出cuLitho软件加速库，可以将计算光刻的用时提速40倍。所谓计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件，上面有芯片加工所需的图案，按照是否需要曝光将图案转移到光刻胶层上。光刻加工过程开始后，通过控制光刻机的曝光和开…- 2
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