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弯道超车，佳能开始销售非光刻方案的 5nm 芯片生产设备
2023年10月13日，佳能今天宣布推出FPA-1200NZ2C芯片生产制造设备，通过将具有纳米压印光刻（NIL）技术的半导体制造设备推向市场。FPA-1200NZ2C与传统的光刻设备通过将电路图案投射到电阻涂层的晶圆上来传输电路图案，新产品通过像邮票一样按压印有电路图案的遮光片来做到这一点。由于其电路模式传输过程不经过光学机构，因此面罩上的精细电路模式可以在晶圆上忠实地再现。因此，利用该设备只需…- 13
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