据媒体透露,有消息人士称,三星电子的3纳米Gate-All-Around(GAA)工艺的良率已经实现了三倍的提高,从先前的10%至20%上升至30%至60%之间,然而,这仍然落后于竞争对手台积电。
除此之外,台积电还宣布今年将3纳米晶圆的产量扩大到每月约10万片,这使得三星几乎没有赶上代工竞争对手台积电的机会。
报道指出,三星电子在其第二代3纳米GAA工艺上投入了更多精力,并在功耗、性能和逻辑区域方面进行了改进。
然而,这并没有为三星吸引更多客户。一份报告指出,要重新赢得像高通等先前的客户认可,三星需要将良率提高到70%。而这些企业在可预见的未来将继续选择台积电。
本月初,韩国媒体报道称,三星电子已经通知客户和合作伙伴,自今年年初起,将第二代3纳米工艺改名为2纳米工艺。
一位业内人士表示:“我们收到了三星电子的通知,他们正在将第二代3纳米工艺更名为2纳米工艺。去年签订的第二代3纳米合同也同步转为了2纳米,因此我们近期需要重新签订合同。”
#免责声明#
①本站部分内容转载自其它媒体,但并不代表本站赞同其观点和对其真实性负责。
②若您需要商业运营或用于其他商业活动,请您购买正版授权并合法使用。
③如果本站有侵犯、不妥之处的资源,请联系我们。将会第一时间解决!
④本站部分内容均由互联网收集整理,仅供大家参考、学习,不存在任何商业目的与商业用途。
⑤本站提供的所有资源仅供参考学习使用,版权归原著所有,禁止下载本站资源参与任何商业和非法行为,请于24小时之内删除!